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                  當(dāng)前位置:首頁(yè)   >  產(chǎn)品中心  >    >  鍍膜機(jī)  >  MS450多靶磁控濺射鍍膜系統(tǒng)

                  多靶磁控濺射鍍膜系統(tǒng)

                  簡(jiǎn)要描述:1.MS450是一臺(tái)高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備。
                  2.設(shè)備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺(tái)、流量控制系統(tǒng)、真空獲得系統(tǒng)、真空測(cè)量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸摸屏自動(dòng)控制系統(tǒng)等組成。
                  3.該設(shè)備主機(jī)與控制一體化設(shè)計(jì),操控方便;結(jié)構(gòu)緊湊,占地面積小。

                  • 所在城市:無(wú)錫市
                  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
                  • 更新日期:2024-12-06
                  • 訪  問(wèn)  量:982

                  詳細(xì)介紹

                  品牌LEBO/雷博
                    1.MS450是一臺(tái)高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備。
                   
                    2.設(shè)備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺(tái)、流量控制系統(tǒng)、真空獲得系統(tǒng)、真空測(cè)量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸摸屏自動(dòng)控制系統(tǒng)等組成。
                   
                    3.該設(shè)備主機(jī)與控制一體化設(shè)計(jì),操控方便;結(jié)構(gòu)緊湊,占地面積小。
                   
                    4.主要用途:
                   
                    1. 開發(fā)納米級(jí)單層、多層及復(fù)合膜層等。
                   
                    2. 制備金屬膜、合金膜、半導(dǎo)體膜、陶瓷膜及介質(zhì)膜等,例:銀、鋁、 銅、鎳、鉻、鎳鉻合金、氧化鈦、氮化鈦、氮化鉻、ITO......
                   
                    3. 兩靶單獨(dú)濺射、依次濺射、共同濺射。
                   
                    5.應(yīng)用領(lǐng)域:
                   
                    1. 高校、科研院所的教學(xué)、科研實(shí)驗(yàn)及生產(chǎn)型企業(yè)前期探索性實(shí)驗(yàn)及開發(fā)新產(chǎn)品等。
                   
                    2. 鈣鈦礦太陽(yáng)能電池、OLED、OPV 太陽(yáng)能電池等行業(yè)。
                   
                   

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